Experimental sectionGraphene oxide

Experimental section
Graphene oxide nanosheets synthesis
Graphene oxide nanosheets (GONs) were grown using a hydrothermal
method. Glucose, sugar and fructose (Sigma-Aldrich)
with DI water solution have been explored as sources with the
concentrations ranging from 0.075 to 0.8 M. A 40 mL source
solution was poured into a 50 mL Teflon-lined autoclave. The
growth temperatures were ranging from 160 to 220 C with
a growth period of 70 to 660 min. After the autoclave was cooled
to room temperature, the GON was rinsed with DI water and
then transferred onto a desirable substrate for thermal annealing.

Kết quả (Việt) 1:

Thử nghiệm phầnGraphen ôxít nanosheets tổng hợpGraphen ôxít nanosheets (GONs) đã được phát triển bằng cách sử dụng một thủy nhiệtphương pháp. Đường, đường và fructoza (Sigma-Aldrich)với DI nước giải pháp đã được khám phá là nguồn với cácnồng độ khác nhau, từ 0,075 cách 0.8 m. Một nguồn 40 mLgiải pháp được đổ vào một nồi hấp lót Teflon 50 mL. Cácnhiệt độ tăng trưởng đã khác nhau, 160-220 C vớimột giai đoạn tăng trưởng của 70 đến 660 min. Sau khi nén được làm mát bằng nướcđến nhiệt độ phòng, Gòn được rinsed với DI nước vàsau đó chuyển vào một bề mặt hấp dẫn cho nhiệt luyện kim.

Kết quả (Việt) 2:

Thử nghiệm phần
Graphene tổng hợp nanosheets oxit
Graphene nanosheets oxide (gons) được trồng bằng cách sử dụng một thủy nhiệt
phương pháp. Glucose, đường fructose (Sigma-Aldrich)
với dung dịch nước DI đã được khám phá như nguồn với các
nồng độ khác nhau, 0,075-0,8 M. Một nguồn 40 ml
dung dịch đã được đổ vào một nồi hấp 50 mL Teflon lót. Các
nhiệt độ tăng trưởng đã được khác nhau, 160-220? C với
một giai đoạn tăng trưởng của 70-660 phút. Sau khi nồi hấp được làm lạnh
đến nhiệt độ phòng, các GON đã được rửa sạch bằng nước DI và
sau đó chuyển lên một bề mặt mong muốn cho ủ nhiệt.