Graphite oxide was synthesized base

Graphite oxide was synthesized based on the modified Hummers method [35]. 0.5 g graphite
powder, 0.5 g NaNO3 and 23 mL Conc. H2SO4 was mixed into a round bottom flask and stirred
in ice bath. 3 g KMnO4 was added slowly over two hours. At 30°C the mixture was stirred for
one hour. 40 ml deionized (DI) water was added. The resulting mixture with yellowish color was
washed with HCl and H2O, and then sonicated in water.
To confirm GO atomic force microscopy (AFM) was used. A cleaned silicon substrate was
modified with 3-aminopropyltriethoxy silane (APTES; 3.6 µL in 6 mL H2O) for 15 minutes.
After washing the resulting substrate was immersed in diluted solution of GO (~0.01 mg/mL) for
3 minutes. After washing, the surface was observed by tapping mode AFM.

Kết quả (Việt) 1:

Than chì ôxít được tổng hợp dựa trên phương pháp Hummer sửa đổi [35]. cách 0.5 g than chì bột, cách 0.5 g NaNO3 và 23 mL Conc. H2SO4 được trộn vào một vòng dưới flask và khuấy trong bồn tắm băng. 3 g KMnO4 đã được thêm chậm hơn hai giờ. Ở 30° C, hỗn hợp được khuấy cho một giờ. 40 ml deionized (DI) nước đã được bổ sung. Hỗn hợp kết quả với màu vàng là rửa sạch với HCl và H2O, và sau đó sonicated trong nước. Ñeå xaùc nhaän kính hiển vi lực nguyên tử đi (AFM) đã được sử dụng. Một chất nền silicon làm sạch Sửa đổi với 3-aminopropyltriethoxy silan (APTES; 3.6 ml trong 6 mL H2O) trong 15 phút. Sau khi rửa bề mặt kết quả đã được đắm mình trong các dung dịch pha loãng của đi (~0.01 mg/mL) cho 3 phút. Sau khi rửa, bề mặt được quan sát thấy bằng cách bấm vào chế độ AFM.

Kết quả (Việt) 2:

Graphite oxide được tổng hợp dựa trên các biến đổi chiếc Hummer phương pháp [35]. 0,5 g graphite
bột, 0,5 g NaNO3 và 23 mL Conc. H2SO4 được trộn vào một bình đáy tròn và khuấy
trong bồn tắm nước đá. 3 g KMnO4 đã được thêm vào từ từ hơn hai giờ. Tại 30 ° C hỗn hợp được khuấy động trong
một giờ. 40 ml Deionized (DI) nước được thêm vào. Kết quả hỗn hợp với màu vàng đã được
rửa sạch với HCl và H2O, và sau đó âm trong nước.
Để xác nhận GO nguyên tử lực kính hiển vi (AFM) đã được sử dụng. Một chất nền silicon sạch đã được
sửa đổi với silane 3 aminopropyltriethoxy (APTES; 3,6 ml trong 6 mL H2O). 15 phút
sau khi rửa bề mặt kết quả, lại đắm chìm trong dung dịch pha loãng của GO (~ 0,01 mg / mL) cho
3 phút. Sau khi rửa, bề mặt đã được quan sát bằng cách khai thác chế độ AFM.