vacuum sputtering processes for sel

vacuum sputtering processes for selective surfaces in evacuated tube collectors have been studied by Harding (1976) and Harding et al (1976) . The sputtering can be done in inert atmosphere (argon) to make metal coatings or in reactive atmospheres (argon plus 1 to 2 % methane ) to produce metal and metal carbide coatings . These coatings reportedly have extremely low e mittances ( = 0.03) but moderate absorptance ( = 0.8) ; higher absorptances are optimum in most applications
sputtering processes are used in the application of cermet selective surfaces on the receivers of Luz concentrating collectors , which operate at temperatures between 300 and 400 C .

Kết quả (Việt) 1:

chân không thổi quá trình chọn lọc các bề mặt trong sơ tán ống thu gom được nghiên cứu bởi Harding (1976) và Harding et al (1976). Tạo các có thể được thực hiện trong môi trường khí trơ (argon) để làm cho lớp phủ bằng kim loại hoặc trong khí quyển phản ứng (argon cộng với 1-2% methane) để sản xuất các vật liệu cacbua kim loại và kim loại. Lớp sơn phủ này được cho là đã rất thấp e mittances (= 0,03) nhưng trung bình absorptance (= 0,8); cao absorptances được tối ưu trong hầu hết các ứng dụng quá trình thổi được sử dụng trong các ứng dụng của bề mặt chọn lọc cermet thu Luz tập trung thu, mà hoạt động ở nhiệt độ giữa 300 và 400 C.

Kết quả (Việt) 2:

quá trình phún xạ chân không cho các bề mặt chọn lọc trong sưu tập ống sơ tán đã được nghiên cứu bởi Harding (1976) và Harding et al (1976). Các phương pháp phún xạ có thể được thực hiện trong môi trường khí trơ (argon) để làm cho lớp phủ kim loại hoặc trong môi trường phản ứng (argon cộng với 1-2% khí mêtan) để sản xuất sơn kim loại và hợp kim kim loại. Lớp sơn phủ báo cáo có mittances cực thấp e (= 0,03) nhưng absorptance vừa phải (= 0,8); absorptances cao hơn là tối ưu trong hầu hết các ứng dụng
quá trình phún xạ được sử dụng trong các ứng dụng của gốm kim loại bề mặt chọn lọc trên các máy thu của Luz thu tập trung, hoạt động ở nhiệt độ từ 300 đến 400 C.