Chemical vapor deposition (CVD) is

Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high quality, high-performance, solid materials. The process is often used in the semiconductor industry to produce thin films. In typical CVD, the wafer (substrate) is exposed to one or more volatile precursors, which react and/or decompose on the substrate surface to produce the desired deposit. Frequently, volatile by-products are also produced, which are removed by gas flow through the reaction chamber.

Microfabrication processes widely use CVD to deposit materials in various forms, including: monocrystalline, polycrystalline, amorphous, and epitaxial. These materials include: silicon, carbon fiber, carbon nanofibers, fluorocarbons, filaments, carbon nanotubes, SiO2, silicon-germanium, tungsten, silicon carbide, silicon nitride, silicon oxynitride, titanium nitride, and various high-k dielectrics. CVD is also used to produce synthetic diamonds.

Kết quả (Việt) 1:

Làm bay hơi hơi hóa học (CVD) là một quá trình hóa học được sử dụng để sản xuất chất lượng cao, hiệu suất cao, vật liệu rắn. Quá trình này thường được sử dụng trong ngành công nghiệp bán dẫn để sản xuất phim mỏng. Ở điển hình CVD, wafer (bề mặt) tiếp xúc với một hoặc nhiều dễ bay hơi tiền chất, mà phản ứng và/hoặc phân hủy trên bề mặt bề mặt để sản xuất các khoản tiền gửi bạn muốn. Thường xuyên, bộ phận nội tạng dễ bay hơi cũng được sản xuất, mà được gỡ bỏ bằng khí chảy qua buồng phản ứng.Quá trình Mỹ phẩm rộng rãi sử dụng CVD gửi tài liệu trong các hình thức khác nhau, bao gồm: đơn tinh thể, polycrystalline, vô định hình, và trải. Các tài liệu này bao gồm: silic, sợi carbon, carbon nanofibers, fluorocarbons, sợi, ống nano cacbon, SiO2, silicon-gecmani, volfram, cacbua silic, silic nitrua, silic oxynitride, Titan nitrua, và khác nhau cao-k sự. CVD cũng được sử dụng để sản xuất kim cương tổng hợp.