Fig. 10. (a) TEM image of the SnO2 nanostructures treated at 700 C after 30 cycles discharge/charge processes; (b) the corresponding SAED pattern of the materials shown in (a).
Hình 10. (a) TEM hình ảnh của SnO2 nanostructures được điều trị tại 700 C sau khi chu kỳ 30 xả/phí quy trình; (b) tri tương ứng mô hình củaCác tài liệu Hiển thị tại (a).
Sung. 10. (a) hình ảnh TEM của cấu trúc nano SnO2 được điều trị ở 700 C sau 30 chu trình xả / phụ trách; (b) các SAED mô hình tương ứng của các tài liệu được hiển thị trong (a).