2. Prior ArtHydrogen and oxygen gas

2. Prior Art

Hydrogen and oxygen gases of high purity are useful in film formation steps for forming thin and thick films such as silicon oxide films, CVD films, and epitaxially grown films and heat treatment steps in the semiconductor manufacturing process, for preventing corrosion of coolant water piping lines in nuclear power plants, and for cooling in thermal power plants, as well as in ceramic, fine ceramic and other industrial fields.

Kết quả (Việt) 1:

2. trước khi nghệ thuậtKhí hydro và oxy tinh khiết là hữu ích trong phim hình thành bước để hình thành bộ phim mỏng và dày như silic ôxít phim, CVD phim, và epitaxially phát triển bộ phim và xử lý nhiệt bước trong bán dẫn quá trình, để ngăn ngừa sự ăn mòn của nước làm mát nước đường ống dòng trong nhà máy điện hạt nhân, và để làm mát trong nhà máy nhiệt điện, cũng như trong gốm sứ sản xuất, tốt gốm và lĩnh vực công nghiệp khác.

Kết quả (Việt) 2:

2. Art Trước Hydrogen và khí oxy tinh khiết cao rất hữu ích trong bước hình thành bộ phim để tạo thành màng mỏng và dày như phim oxit silic, phim CVD, và bộ phim mọc ghép phát triển và các bước xử lý nhiệt trong quá trình sản xuất chất bán dẫn, để ngăn ngừa sự ăn mòn của nước làm mát đường ống nước trong nhà máy điện hạt nhân, và để làm mát trong các nhà máy nhiệt điện, cũng như trong gốm, tiền phạt lĩnh vực công nghiệp gốm sứ và khác.