The dispersion state of organoclay

The dispersion state of organoclay (C30B) in epoxy resin was
studied by WAXD and SEM analyses. Fig. 2 illustrates the XRD patterns of pure organoclay (C30B), organoclay dispersion in a mixture
of solvents (C30B-D), of the reference NC0 sample (cured epoxy
resin) and the epoxy NCs with 1–10 wt% organoclay content.
The XRD pattern of organoclay shows one very intense diffraction peak of the (0 0 1) plane at 4.7◦ 2 and one weak peak of
the (0 0 2) plane at 9.4◦ 2 corresponding to the clay interlayer dspacing of 1.88 nm. The position of the (0 0 1) reflection in the XRD
pattern of organoclay dispersion in the mixture of solvents (xylene,
n-butanole and MEK) is shifted to a smaller 2 value of 3.51◦, corresponding to an increased d-spacing of 2.52 nm.

Kết quả (Việt) 1:

Phân tán, bang organoclay (C30B) trong nhựa epoxy lànghiên cứu phân tích WAXD và SEM. 2 hình minh họa các mô hình XRD của tinh khiết organoclay (C30B), organoclay phân tán trong một hỗn hợpcủa dung môi (C30B-D), mẫu tham khảo NC0 (epoxy chữa khỏinhựa tổng hợp) và epoxy NCs với nội dung organoclay 1-10 wt %.Các mô hình XRD của organoclay cho thấy một rất dữ dội nhiễu xạ cao điểm (0 0 1) máy bay tại 4.7◦ 2 và một cao điểm yếu của(0 0 2) máy bay tại 9.4◦ 2 tương ứng với dspacing interlayer đất sét của 1,88 nm. Vị trí của (0 0 1) phản ánh trong XRDMô hình của organoclay phân tán trong hỗn hợp dung môi (Xylen,n-butanole và MEK) chuyển sang một giá trị nhỏ hơn 2 của 3.51◦, tương ứng với một gia tăng khoảng cách d của 2,52 nm.

Kết quả (Việt) 2:

Các trạng thái phân tán của sét hữu cơ (C30B) trong nhựa epoxy đã được
nghiên cứu bởi WAXD và SEM phân tích. Hình. 2 minh họa các mẫu XRD của sét hữu cơ tinh khiết (C30B), phân tán sét hữu cơ trong hỗn hợp
dung môi (C30B-D), các tài liệu tham khảo NC0 mẫu (chữa khỏi epoxy
resin) và cấy dịch epoxy với 1-10% khối lượng sét hữu cơ nội dung.
Các XRD mô hình của sét hữu cơ cho thấy một đỉnh nhiễu xạ rất dữ dội của (0 0 1) máy bay tại 4.7◦ 2? và một cao điểm yếu của
các (0 0 2) máy bay tại 9.4◦ 2? tương ứng với dspacing xen sét 1,88 nm. Vị trí của (0 0 1) phản ánh trong XRD
mẫu của sét hữu cơ phân tán trong hỗn hợp các dung môi (xylene,
n-butanole và MEK) được chuyển sang một nhỏ hơn 2? giá trị của 3.51◦, tương ứng với một tăng d-khoảng cách 2,52 nm.