When completed, on the wafer only r

When completed, on the wafer only remaind pattern by the mask created.

Kết quả (Việt) 1:

Khi hoàn thành, trên wafer chỉ remaind mô hình bằng mặt nạ tạo ra.

Kết quả (Việt) 2:

Khi hoàn thành, trên wafer chỉ remaind mẫu bởi mặt nạ được tạo ra.