MD simulation with reactive FF is u

MD simulation with reactive FF is used for heating up pristine silicene to 2000 K to study the influence of vacancy defects on stability of silicene. Silicence is stable up to 1500 K and vacancy reduces stability of the system.

Kết quả (Việt) 1:

MD mô phỏng với FF phản ứng được dùng để sưởi ấm silice hoang sơ đến 2000 K để nghiên cứu sự ảnh hưởng của vị trí tuyển dụng khiếm khuyết về độ ổn định của silice. Silicence là lên đến 1500 K ổn định và vị trí tuyển dụng làm giảm sự ổn định của hệ thống.

Kết quả (Việt) 2:

MD mô phỏng với FF phản ứng được sử dụng để sưởi ấm lên silicene nguyên sơ đến 2000 K để nghiên cứu ảnh hưởng của các khuyết tật trí tuyển dụng về sự ổn định của silicene. Silicence là ổn định lên tới 1500 K và vị trí tuyển dụng làm giảm sự ổn định của hệ thống.