The aim of this study was to use th

The aim of this study was to use the newly developed edge lithography to fabricated high nano-pattern and are replicated in resist films on silke substrates by thermal NIL(T-NIL)

Kết quả (Việt) 1:

Mục đích của nghiên cứu này đã là sử dụng in thạch bản mới được phát triển cạnh để chế tạo cao mô hình nano và được nhân rộng trong bộ phim chống lại ngày silke chất của nhiệt NIL(T-NIL)

Kết quả (Việt) 2:

Mục đích của nghiên cứu này là sử dụng các cạnh in thạch bản mới được phát triển để chế tạo nano mô hình cao và được nhân rộng trong chống phim trên đế Silke bởi nhiệt NIL (T-NIL)