The ultraviolet absorption in silic

The ultraviolet absorption in silica is caused by interband electronic
transitions. SiO2 has a fundamental band gap of about 10 eV, and interband
transitions are possible whenever the photon energy exceeds
this value. Hence we observe an absorption threshold in the ultraviolet
at 2 × 1015 Hz (150 nm). The interband absorption peaks at around
3×1015 Hz with an extremely high absorption coefficient of ∼ 108 m−1,
and then gradually falls off to higher frequency. Subsidiary peaks are
observed at ∼ 3×1016 Hz and 1.3×1017 Hz. These are caused by transitions
of the inner core electrons of the silicon and oxygen atoms. The
fact that the electronic absorption consists of a continuous band rather
than a discrete line makes it hard to model accurately as a Lorentz oscillator.
We shall discuss the quantum theory of the interband absorption
in Chapter 3.

Kết quả (Việt) 2:

Sự hấp thụ tia cực tím trong silica được gây ra bởi điện tử interband
chuyển tiếp. SiO2 có một khoảng cách ban nhạc cơ bản khoảng 10 eV, và interband
chuyển tiếp có thể xảy ra bất cứ khi nào năng lượng photon vượt quá
giá trị này. Do đó chúng ta quan sát một ngưỡng hấp thụ trong vùng tử ngoại
tại 2 × 1015 Hz (150 nm). Các đỉnh hấp thụ interband khoảng
3 × 1015 Hz với một hệ số hấp thụ rất cao ~ 108 m-1,
và sau đó dần dần rơi xuống với tần số cao hơn. Đỉnh công ty con được
quan sát thấy ở ~ 3 × 1016 Hz và 1,3 × 1017 Hz. Chúng được gây ra bởi quá trình chuyển đổi
của các electron bên trong lõi của các nguyên tử silic và oxy. Các
thực tế rằng sự hấp thụ điện tử bao gồm một dải liên tục chứ không phải
là một dòng riêng biệt làm cho nó khó để mô hình chính xác như một dao động Lorentz.
Chúng ta sẽ thảo luận về lý thuyết lượng tử của sự hấp thụ interband
ở chương 3.