The thickness of the material that

The thickness of the material that can be laser drilled is restricted to
50 mm.
■ Adherent materials, which are found normally at the exit holes, need
to be removed.
5.3 Electron Beam Machining
5.3.1 Introduction
The earliest work of material removal utilizing an electron beam was
attributed to Steigerwald who designed a prototype machine in 1947.
Electron beam machining (EBM) has been used in industry since the
1960s, initially in nuclear and aerospace welding applications. Drilling
small holes, cutting, engraving, and heat treatment are a set of modern
applications used in semiconductor manufacturing as well as micromachining areas.
5.3.2 Basic equipment and removal
mechanism
The main components of EBM installation, shown in Fig. 5.43 are
housed in a vacuum chamber, evacuated to about 10–4 torr. The tungsten
filament cathode is heated to about 2500 to 3000°C in order to emit
electrons. A measure of this effect is the emission current, the magnitude of which varies between 20 and 100 mA. Corresponding current
densities lie between 5 and 15 A/cm2. Emission current depends on the
cathode material, temperature, and the high voltage that is usually
about 150 kV. Such a high voltage accelerates a stream of electrons in
the direction of the workpiece. After acceleration, electrons, focused by
the field, travel through a hole in the anode. The electron beam is
Thermal Processes 157
High vacuum pump
Local heating, fusing,
and vaporizing
Electron gun
Cathode (−), electron
emitting filament
Anode (+)
Magnetic lens
Grid cup
Viewing port
Vacuum chamber
1 × 10−4 torr
Electron stream
Workpiece
Figure 5.43 Components of an EBM system.

Kết quả (Việt) 1:

Độ dày của vật liệu có thể là khoan laser là bị giới hạn50 mm.■ Dính vật liệu, phát hiện bình thường tại các lỗ thoát, cầnđể được gỡ bỏ.5.3 gia công tia điện tử5.3.1 giới thiệuViệc cắt bỏ vật liệu bằng cách sử dụng một chùm electron, sớm nhất làdo Steigerwald người đã thiết kế một mẫu thử nghiệm máy vào năm 1947.Điện tử máy gia công tia (EBM) đã được sử dụng trong ngành công nghiệp kể từ khi cácthập niên 1960, ban đầu trong hạt nhân và hàng không vũ trụ Hàn. Máy khoanlỗ nhỏ, cắt, khắc, và xử lý nhiệt là một bộ hiện đạiứng dụng được sử dụng trong sản xuất chất bán dẫn cũng như các khu vực micromachining.5.3.2 thiết bị cơ bản và loại bỏcơ chếCác thành phần chính của EBM cài đặt, Hiển thị trong hình 5.43 lànằm trong một buồng chân không, sơ tán khoảng 10 – 4 torr. VonframFilament catốt được đun nóng đến khoảng 2500 đến 3000° C để phát rađiện tử. Biện pháp này có hiệu lực là hiện tại, bức xạ cường độ mà thay đổi giữa 20 và 100 mA. Tương ứng hiện hànhmật độ nằm giữa 5 và 15 A/cm2. Phát thải hiện tại phụ thuộc vào cácvật liệu catốt, nhiệt độ và điện áp cao thườngkhoảng 150 kV. Một điện áp cao tăng tốc một dòng electron tronghướng các phôi. Sau khi tăng tốc, điện tử, tập trung bởicác lĩnh vực, du lịch thông qua một lỗ hổng trong anode. Các chùm tia điện tử làQuá trình nhiệt 157Máy bơm chân không caoHệ thống sưởi cục bộ, nung chảy,và vaporizingElectron gunCatốt (−), điện tửphát ra sợiCực dương (+)Từ ống kínhLưới điện cúpXem portBuồng chân không1 × 10−4 torrDòng điện tửPhôiCon số 5.43 các thành phần của một hệ thống EBM.

Kết quả (Việt) 2:

Độ dày của vật liệu có thể được tia laser khoan bị hạn chế đến
50 mm.
■ vật liệu dính, được tìm thấy bình thường tại các lỗ thoát, cần
phải được loại bỏ.
5.3 bằng tia điện tử Máy
5.3.1 Giới thiệu
Công việc đầu tiên của loại bỏ vật liệu sử dụng một chùm tia điện tử đã được
gán cho Steigerwald người đã thiết kế một nguyên mẫu máy vào năm 1947.
electron chùm công (EBM) đã được sử dụng trong ngành công nghiệp kể từ
năm 1960, ban đầu trong các ứng dụng hàn hạt nhân và hàng không vũ trụ. Khoan
lỗ nhỏ, cắt, khắc, và xử lý nhiệt là một tập hợp của hiện đại
ứng dụng được sử dụng trong sản xuất chất bán dẫn cũng như các lĩnh vực công nghệ vi.
5.3.2 thiết bị cơ bản và loại bỏ
cơ chế
Các thành phần chính của cài đặt EBM, thể hiện trong hình. 5.43 được
đặt trong một buồng chân không, sơ tán đến khoảng 10-4 torr. Các vonfram
cathode dây tóc được làm nóng đến khoảng 2500-3000 ° C để phát ra
các electron. Một biện pháp của hiệu ứng này là sự phát hiện, độ lớn của dịch thay đổi từ 20 đến 100 mA. Tương ứng với hiện tại
mật độ nằm giữa 5 và 15 A / cm2. Phát hiện phụ thuộc vào
nguyên liệu cathode, nhiệt độ và điện áp cao mà thường là
khoảng 150 kV. Một điện áp cao như vậy làm tăng tốc một dòng electron trong
sự chỉ đạo của phôi. Sau khi tăng tốc, điện tử, tập trung bởi
lĩnh vực này, đi qua một cái lỗ trên anode. Các chùm tia điện tử là
quá trình nhiệt 157
chân không cao bơm
nhiệt địa phương, kết hợp,
và bốc hơi
Electron súng
Cathode (-), điện tử
phát ra sợi
Anode (+)
ống kính từ
lưới tách
Xem cổng
buồng chân không
1 × 10-4 torr
Electron dòng
phôi
Hình 5.43 các thành phần của một hệ thống EBM.