Both positive and negative photores

Both positive and negative photoresists are available. With negative photoresist the unexposed areas are removed during development, and with positive resist the exposed areas are removed. Negative resists arc noted for being quite unaffected by etchants used in processing, but finer resolution can typically be obtained with positive resists. Photoresists serve as protective layers to many etchants and oxidizing agents, and as a barrier to ion implants

Kết quả (Việt) 1:

Photoresists cả tích cực và tiêu cực có sẵn. Với tiêu cực hoà vùng unexposed được loại bỏ trong quá trình phát triển, và với tích cực chống lại các khu vực tiếp xúc sẽ bị loại bỏ. Tiêu cực chống arc ghi nhận được khá không bị ảnh hưởng bởi etchants được sử dụng trong chế biến, nhưng độ phân giải tốt hơn thường có thể được thu được với tích cực chống. Photoresists phục vụ như là lớp bảo vệ cho nhiều etchants và tác nhân ôxi hóa, và như là một rào cản để ion cấy ghép

Kết quả (Việt) 2:

Cả hai quang có tích cực và tiêu cực có sẵn. Với tiêu cực cản quang các khu vực chưa phơi sáng được loại bỏ trong quá trình phát triển, và với tích cực chống lại các khu vực tiếp xúc được loại bỏ. Ít trở kháng tiêu cực vòng cung nổi danh là khá bị ảnh hưởng bởi etchants được sử dụng trong chế biến, nhưng độ phân giải tốt hơn thường có thể thu được với Ít trở kháng tích cực. Quang có phục vụ như là lớp bảo vệ cho nhiều etchants và chất oxy hóa, và là một rào cản đối với ion cấy ghép