In order to investigate the influen

In order to investigate the influence of the square lattice dimension, the etched gap, which is related with the gap capacitance,
was kept constant to 0.2 mm for all three cases and the etched square area was varied. The substrate with 62-mil thick and a
dielectric constant of ten was used for all simulations. The simulation results are illustrated in Fig. 2. From Fig. 2, one clearly observes that employing the proposed etched lattice increases the series inductance to the microstrip line.

Kết quả (Việt) 1:

Để điều tra ảnh hưởng của kích thước vuông lưới, khoảng cách khắc có liên quan với điện dung gap,được giữ liên tục đến cách 0.2 mm cho cả ba trường hợp và tích vuông khắc khác nhau. Bề mặt với 62-mil dày và mộtlưỡng điện liên tục 10 được sử dụng cho tất cả các mô phỏng. Kết quả mô phỏng được minh họa trong hình 2. Từ hình 2, một trong những rõ ràng quan sát rằng sử dụng lưới khắc đề xuất tăng cảm loạt dòng microstrip.

Kết quả (Việt) 2:

Để điều tra sự ảnh hưởng của kích thước lưới vuông, khoảng cách được khắc, mà là liên quan với điện dung khoảng cách,
được giữ liên tục đến 0,2 mm cho cả ba trường hợp và các khu vực vuông khắc đã được thay đổi. Các chất nền với 62 triệu dày và một
hằng số điện môi của mười đã được sử dụng cho tất cả các mô phỏng. Các kết quả mô phỏng được minh họa trong hình. 2. Từ hình. 2, người ta quan sát rõ ràng rằng việc triển khai mạng tinh thể khắc đề xuất tăng dòng điện cảm để dòng microstrip.