Hyundai Electronics Co., Ltd (Hynix

Hyundai Electronics Co., Ltd (Hynix)/Korea
Photolithography Process Engineering Manager (1986 – 1990)
Mobile: [phone]
E-Mail: [e-mail], [e-mail]
Page: 5 of 6
Photolithography Process Engineer (1983-1986)
 Joined Hynix as a technical foundation member when Hynix was founded in 1983, and
dispatched to Silicon Valley to build 1
st Hynix fab in Santa Clara.
 Participated new 8” fabrication facility project for sub-micron device production as a key taskforce
member in Hynix Ichon, Korea.
 Characterized photo process of sub-micron design rule for DRAM and SRAM memory devices
mass production.
 DOE to optimize process parameters and environmental conditions to have large production
windows.
 Utilized SPC technique to control and monitor production process to improve system
productivities and rework rate.
 Performed Process Analysis to find defect solutions and production window improvement.
 Integrated Tracks and Steppers to reduce manufacturing cost and to increase system
productivity.
 Developed process formula with various photo-resists for sub-micron photo masking process,
and designed mask frames of alignment tools for sub-micron process.
 Evaluated TEL, DNS, and SVG Tracks at manufacturers Lab. for new 8” photo resist process
feasibility evaluation.
 Performed SVG 8X track system upgrades to adopt resist temperature, environmental
temperature, and relative humidity control over the spinner modules for system performance
and productivity improvements.
 Evaluated Nikon, Canon, and Ultratech Steppers to interface with track systems as inline
application.
 Hands-on experience on SVG, DNS, and TEL Tracks as well as Nikon, Canon, Ultratech
Steppers for sub-micron memory production line.

Kết quả (Việt) 1:

Hyundai Electronics Co., Ltd (Hynix) / Hàn QuốcPhotolithography quy trình kỹ thuật quản lý (1986-1990)Di động: [phone]E-Mail: [e-mail], [e-mail]: 5 / 6Kỹ sư quy trình photolithography (1983-1986) Hynix tham gia như một thành viên kỹ thuật nền tảng khi Hynix được thành lập năm 1983, vàcử đến thung lũng Silicon để xây dựng 1St Hynix fab tại Santa Clara. Participated 8" chế tạo cơ sở dự án mới cho sản xuất thiết bị tiểu micron là một taskforce chínhthành viên tại Hynix Ichon, Hàn Quốc. Characterized ảnh trình tiểu micron thiết kế quy tắc cho các thiết bị bộ nhớ DRAM và SRAMsản xuất hàng loạt. DOE để tối ưu hóa các thông số quá trình và các điều kiện môi trường có sản xuất lớnWindows. SPC sử dụng kỹ thuật để kiểm soát và theo dõi quá trình sản xuất để cải thiện hệ thốngđại và làm lại tỷ lệ. thực hiện quá trình phân tích để tìm giải pháp lỗi và sự cải tiến công cụ sản xuất cửa sổ. tích hợp Tracks và Steppers để giảm chi phí sản xuất và tăng cường hệ thốngnăng suất. phát triển quá trình công thức với nhiều ảnh chống tiểu micron ảnh che quá trình,và thiết kế mặt nạ khung công cụ chỉnh cho quá trình phụ micron. Evaluated TEL, DNS và SVG theo dõi tại các nhà sản xuất Lab. cho hình ảnh mới 8" chống lại quá trìnhđánh giá tính khả thi. thực hiện SVG 8 X nâng cấp hệ thống theo dõi thông qua chống lại nhiệt độ môi trườngnhiệt độ và độ ẩm tương đối soát spinner module cho hiệu năng hệ thốngvà cải tiến năng suất. đánh giá Nikon, Canon và Ultratech Steppers để giao tiếp với hệ thống theo dõi như inlineứng dụng. Các kinh nghiệm thực hành trên SVG, DNS, và theo dõi điện thoại cũng như Nikon, Canon, UltratechSteppers cho dây chuyền sản xuất bộ nhớ phụ micron.

Kết quả (Việt) 2:

Hyundai Electronics Co, Ltd (Hynix) / Hàn Quốc
in ảnh litô Engineering Process Manager (1986 - 1990)
Điện thoại di động: [phone]
E-Mail: [e-mail], [e-mail]
Trang: 5 6
in ảnh litô Process Engineer ( 1983-1986)
 Tham gia Hynix là thành viên nền tảng kỹ thuật khi Hynix được thành lập vào năm 1983, và
cử đến Silicon Valley xây dựng 1
st Hynix fab ở Santa Clara.
 Tham gia mới dự án cơ sở 8 "chế tạo để sản xuất thiết bị phụ micron như một lực lượng đặc nhiệm chính
thành viên trong Hynix Ichon, Hàn Quốc.
 Đặc trưng quá trình ảnh của quy tắc thiết kế tiểu micron cho DRAM và các thiết bị bộ nhớ SRAM
sản xuất hàng loạt.
 DOE để tối ưu hóa các thông số quá trình và điều kiện môi trường có sản lượng lớn
các cửa sổ.
 Tận dụng kỹ thuật SPC để kiểm soát và giám sát quá trình sản xuất để cải thiện hệ thống
năng suất và làm lại tỷ lệ.
 Thực hiện Quy trình phân tích để tìm ra giải pháp lỗi và cải thiện cửa sổ sản xuất.
 Tracks và cơ bước tích hợp để giảm chi phí sản xuất và tăng cường hệ thống
năng suất.
 Phát triển quá trình công thức khác nhau với hình ảnh chống cho phụ micron quá trình ảnh mặt nạ,
và thiết kế khung mặt nạ của các công cụ chỉnh cho quá trình phụ micron.
 Evaluated TEL, Tracks DNS, và SVG tại các nhà sản xuất Lab. cho 8 mới "hình ảnh cưỡng lại quá trình
đánh giá tính khả thi.
 Thực hiện SVG 8X nâng cấp hệ thống theo dõi áp dụng chống lại nhiệt độ, môi trường
nhiệt độ và kiểm soát độ ẩm tương đối trên các module spinner cho hiệu năng hệ thống
và cải tiến sản xuất.
 Evaluated Nikon, Canon, cơ bước và Ultratech để giao tiếp với các hệ thống theo dõi như nội tuyến
ứng dụng.
 Hands-on kinh nghiệm trên SVG, DNS, và TEL Tracks cũng như Nikon, Canon, Ultratech
cơ bước cho dây chuyền sản xuất bộ nhớ phụ micron.

Kết quả (Việt) 3:

Công ty TNHH điện tử hiện đại (Hynix) / Hàn QuốcQuang khắc nghệ thuật quản lý kỹ thuật (1986 - 1990)+ 84938453335 di chuyển:Email: [e-mail], [e-mail]ày 5 / 6 trang.Quang khắc công nghệ kỹ sư (1983-1986 năm) tham gia vào công nghệ hiện đại cho là nền tảng cho các thành viên của Công ty khi được thành lập vào năm 1983, vàGửi đến thung lũng Silicon xây dựng 1.St đĩa bán dẫn nhà máy ở Santa Clara. tham gia dự án mới tạo cơ sở cho A - 8 "micrômét thiết bị sản xuất một vấn đề làm việc nhómCác thành viên trong lichuanensis, Hàn Quốc. has a - micrômét thiết kế quy tắc DRAM và SRAM ảnh của quá trình của bộ nhớSản xuất hàng loạt.Các thông số kỹ thuật và môi trường tối ưu hóa  hại bản thân mình đấy có nhiều điều kiện sản xuấtCửa sổ.SPC  sử dụng công nghệ để kiểm soát và giám sát quá trình sản xuất, cải thiện hệ thống.Tỷ lệ sức sản xuất và làm lại. tiến hành quá trình phân tích, tìm ra những khiếm khuyết của cửa sổ và sản xuất giải pháp cải tiến. hội bước vào quỹ đạo và động cơ để giảm chi phí sản xuất và tăng thêm hệ thốngLực lượng sản xuất.Quá trình phát triển của công thức  với đủ loại quang khắc A - micrômét quang khắc thủ công,A - micrômét quá trình dùng mặt nạ dóng hộp công cụ.Đánh giá điện thoại  SVG, DNS và quỹ đạo của phòng thí nghiệm sản phẩm của quá trình quang khắc mới 8 "Đánh giá khả thi. tiến hành nâng cấp sử dụng hệ thống theo dõi 8X SVG, chịu nhiệt độ cao.Nhiệt độ, độ ẩm tương đối hiệu suất trong hệ thống điều khiển mô - đun vếtVà cải tiến của lực lượng sản xuất.Đánh giá  Nikon và Canon và bước vào với hệ thống theo dõi như giao diệnÁp dụng.Với kinh nghiệm  SVG, DNS, và theo dõi điện thoại và Nikon và Canon,A - micrômét bộ nhớ dòng sản xuất bước vào động cơ.