The physical characteristics of the

The physical characteristics of the photoresist can be changed by exposure to light. The photoresist thus acts as a film emulsion and can be exposed by light through the transparent areas of a mask (either by contact printing or projection), by a projection of’ light through a reticle containing the same information (called direct step on wafer), or by an electron beam (E-beam) that scans the desired regions.

Kết quả (Việt) 1:

Các đặc tính vật lý của hoà có thể được thay đổi do tiếp xúc với ánh sáng. Hoà là do đó hoạt động như một bộ phim nhũ tương và có thể được tiếp xúc bằng ánh sáng thông qua các khu vực trong suốt của một mặt nạ (hoặc bằng cách liên lạc in ấn hoặc chiếu), bằng một dự của ' ánh sáng thông qua một mặt kẻ ô có chứa thông tin tương tự (gọi là trực tiếp bước trên wafer), hoặc bởi một tia điện tử (E-chùm) mà quét vùng mong muốn.

Kết quả (Việt) 2:

Các đặc tính vật lý của cảm quang có thể được thay đổi bằng cách tiếp xúc với ánh sáng. Cản quang do đó hoạt động như một nhũ tương phim và có thể được tiếp xúc với ánh sáng qua vùng trong suốt của một mặt nạ (hoặc bằng cách in liên lạc hoặc chiếu), bởi một chiếu "ánh sáng thông qua một mặt kẻ ô có chứa các thông tin tương tự (gọi là bước trực tiếp trên wafer) , hoặc bằng tia điện tử (E-beam) quét các vùng mong muốn.