A fourth process can also occur, as

A fourth process can also occur, as shown in Fig. 8.1(d). Instead of emitting an X-ray
photon, the energy released knocks an electron out of the M shell. This electron is called an
Auger electron. This Auger process is the basis for a sensitive surface analysis technique.
Auger electron spectroscopy and the related method of X-ray photoelectron spectroscopy,
based on the measurement of the emitted electron shown in Fig. 8.1(b), are discussed in
Chapter 14.

Kết quả (Việt) 1:

Một quá trình thứ tư cũng có thể xảy ra, như minh hoạ trong hình 8.1(d). Thay vì phát ra một tia xphoton, các năng lượng phát hành gõ một electron trên vỏ M. Điện tử này được gọi là mộtHọ điện tử. Quá trình họ này là cơ sở cho một kỹ thuật phân tích bề mặt nhạy cảm.Họ điện tử phổ và phương pháp X-ray photoelectron spectroscopy, liên quanDựa trên đo lường của điện tử phát ra Hiển thị trong hình 8.1(b), được thảo luận trongChương 14.

Kết quả (Việt) 2:

Một quá trình thứ tư cũng có thể xảy ra, như thể hiện trong hình. 8.1 (d). Thay vì phát ra một X-ray
photon, năng lượng phát hành gõ một electron ra khỏi vỏ M. Electron này được gọi là
electron Auger. Quá trình Auger này là cơ sở cho một kỹ thuật phân tích bề mặt nhạy cảm.
quang phổ Auger electron và phương pháp liên quan của X-quang điện tử tia quang phổ,
dựa trên đo lường của các electron phát ra hình. 8.1 (b), được thảo luận trong
Chương 14.