Figure 2.33 Arrhenius plots of H2 p

Figure 2.33 Arrhenius plots of H2 permeance and H2/N2 separation ratio for (A) a sol^gel-derived single membrane tube [81], (B) a sol^gel-derived silica membrane bundle (from [81]), and
(C) a chemical vapor deposition (CVD)-derived silica membrane module prepared at 600 C (from [103]).

Although the mechanisms are not fully understood [113], silica membrane hydrothermal densification occurs mostly by restructuring siloxane rings (accessible only to H2, He, Ne, and H2O) at the surface of the amorphous silica clusters.

Sol–gel-derived silica membranes may strongly change their pore structure and separation performance due to adsorption of water molecules and successive rear-rangements while left in the atmosphere [123]. Exposition of a standard silica membrane to steam at 350 C during 15 days yields a decline of both the H2/ CO2 selectivity from 29.7 to 20.9 and of the hydrogen permeance, by a factor 3.

On the contrary, CVD membranes seem to be more stable as far as their exposure to moisture (10% H2O in Ar) at 873 K resulted in only a 4% drop in permeability in the first 12 h with no further drop in permeability for up to 120 h [31]. In [43], the H2/N2 permeance ratio of silica membranes obtained by counter-diffusion CVD was kept over 800 for 21 h at 773 K steam treatment. A quite stable behavior was

Kết quả (Việt) 1:

Hình 2,33 Arrhenius lô H2 permeance và tỉ lệ chia ly H2/N2 cho sol (A) một ^ màng tế bào duy nhất có nguồn gốc gel ống [81], (B) một sol ^ silica gel-nguồn gốc màng bó (từ [81]), và(C) một hơi hóa chất lắng đọng (CVD) – nguồn gốc silica màng mô-đun chuẩn bị ở 600 C (từ [103]).Mặc dù các cơ chế không hoàn toàn hiểu [113], silica màng thủy nhiệt densification xảy ra chủ yếu do cơ cấu lại siloxane nhẫn (có thể truy cập chỉ H2, ông, Ne và H2O) trên bề mặt của cụm amorphous silica.Màng tế bào có nguồn gốc Sol-gel silica mạnh mẽ có thể thay đổi hiệu suất cơ cấu và chia ly của lỗ chân lông do hấp phụ của các phân tử nước và phía sau-rangements kế tiếp trong khi còn lại trong khí quyển [123]. Trình bày của một tiêu chuẩn silica màng để ở 350 C trong thời gian 15 ngày mang lại một sự suy giảm của cả hai H2 / chọn lọc khí CO 2 từ 29.7 20.9 và của permeance hydro, bởi một yếu tố 3.Ngược lại, CVD màng dường như ổn định hơn như xa như họ tiếp xúc với độ ẩm (10% H2O trong Ar) 873 k kết quả trong chỉ một giảm 4% trong thấm trong 12 h đầu tiên với không có thả thêm thấm cho 120 h [31]. Trong [43], tỷ lệ permeance H2/N2 silica màng thu được bằng cách truy cập phổ biến CVD được giữ hơn 800 cho 21 h tại 773 K hơi nước điều trị. Một hành vi khá ổn định là

Kết quả (Việt) 2:

Hình 2.33 Arrhenius lô H2 thấm và H2 / tỷ lệ tách N2 cho (A) một sol ^ ống gel có nguồn gốc từ màng đơn [81], (B) một sol ^ bó silica màng gel có nguồn gốc từ (từ [81]), và
(C) một lắng đọng hơi hóa học (CVD) -derived mô-đun màng silica chuẩn bị ở 600 C (từ [103]).

Mặc dù cơ chế chưa được hiểu đầy đủ [113], silica màng thủy nhiệt đầm nén xảy ra chủ yếu là do cơ cấu lại nhẫn siloxane (chỉ truy cập H2, He, Ne, và H2O) ở bề mặt của các cụm silica vô định hình.

màng silica Sol-gel có nguồn gốc có thể mạnh mẽ thay đổi cấu trúc lỗ của họ và hiệu suất tách do hấp phụ của các phân tử nước và tiếp phía sau rangements trong khi còn lại trong bầu không khí [123]. Tờ trình của một màng silica tiêu chuẩn để hơi nước ở 350 C trong thời gian 15 ngày cho ra một sự suy giảm của cả H2 / CO2 chọn lọc 29,7-20,9 và của thấm hydro, gấp 3.

Ngược lại, bệnh tim mạch màng có vẻ ổn định hơn như xa như tiếp xúc với độ ẩm (10% H2O trong Ar) tại 873 K dẫn đến chỉ giảm 4% trong độ thấm trong 12 giờ đầu tiên không có tiếp tục giảm tính thấm cho đến 120 h [31]. Trong [43], tỷ lệ thấm H2 / N2 màng silica thu được bằng phản khuếch tán CVD đã được giữ trên 800 trong 21 giờ ở 773 K điều trị hơi. Một hành vi khá ổn định là

Kết quả (Việt) 3:

Đồ 2.33 đồ H2 thâm nhập và tách H2/N2 hơn vì (1) Sol ^ gel màng đơn ống [81], (B) có nguồn gốc từ màng silica gel (^ Sol của chùm từ [81]), và(C) một loại hóa chất pha khí (khí hóa học giai đoạn trầm tích lắng đọng) có nguồn gốc từ màng silica mô - đun, trên 600 C (từ [103]).Mặc dù không hoàn toàn hiểu được cơ chế [113], silica nóng chảy chủ yếu xảy ra ở màng dày đặc tái tổ hợp siloxane Loop (chỉ có H2, hắn, neon, và có thể truy cập H2O) ở vô hình răng cưa. Silicon Đoàn cụm surface.Sol - gel trong màng trong không khí (123] trái thay đổi cấu trúc mạnh độ xốp, vì nước tách phân tử hấp phụ và sau màn trình diễn liên tiếp thứ.Discusses the Standard Silicon màng hơi nước ở 350 độ 15 ngày khi sản lượng sụt giảm H2/CO2 có chọn lọc từ 29.7 đến 20.9, hydro thâm nhập bởi một yếu tố 3.Thay vào đó, tim mạch pha khí hóa màng lắng đọng dường như là ổn định hơn, bởi vì họ bị 873 K độ ẩm (5% O H o) dẫn trước 12 giờ, chỉ có một 4% tính thấm của giảm, không xa hơn nữa, thấm cao đạt 120 giờ [31].Trong [43], H2/N2 silica của màng chống phổ biến thông qua CVD có tỷ lệ giữ ở 800 trên 21 giờ ở 773 K hơi nước xử lý.Một hành động là khá ổn định.