Silicon dioxide provides a high-qua

Silicon dioxide provides a high-quality insulating barrier on the surface of the silicon
wafer. In addition, this layer can serve as a barrier layer during subsequent impuritydiffusion
process steps. These two factors have allowed silicon to become the dominant
semiconductor material in use today.

Kết quả (Việt) 1:

Điôxít silic cung cấp một rào cản cách điện chất lượng cao trên bề mặt của silicwafer. Ngoài ra, lớp này có thể phục vụ như là một lớp rào cản trong tiếp theo impuritydiffusionquá trình bước. Hai yếu tố đã cho phép silic để trở thành chủ đạovật liệu bán dẫn sử dụng vào ngày hôm nay.

Kết quả (Việt) 2:

Silicon dioxide cung cấp một hàng rào cách điện chất lượng cao trên bề mặt của silicon
wafer. Ngoài ra, lớp này có thể phục vụ như là một lớp rào cản trong impuritydiffusion tiếp theo
các bước quy trình. Hai yếu tố này đã cho phép silicon để trở thành chi phối
vật liệu bán dẫn sử dụng ngày nay.