This reaction takes place even at r

This reaction takes place even at room temperature, in every day. However, in semiconductor process, silicon dioxide must be pure and formed in a specific way. One of these ways is a thermal furnace. It have some advances as below:
- Control the pressure, temperature, and present of oxidants.
- Control the growth of oxidation in dry and wet process

Kết quả (Việt) 1:

Phản ứng này diễn ra ngay cả ở nhiệt độ phòng, trong mỗi ngày. Tuy nhiên, trong quá trình nung, điôxít silic phải tinh khiết và hình thành một cách cụ thể. Một trong những cách này là một lò nhiệt. Nó có một số tiến bộ như dưới đây:-Kiểm soát áp suất, nhiệt độ, và hiện tại của oxy hóa.-Kiểm soát sự phát triển của quá trình oxy hóa trong quá trình khô và ướt

Kết quả (Việt) 2:

Phản ứng này xảy ra ngay cả ở nhiệt độ phòng, trong mỗi ngày. Tuy nhiên, trong quá trình bán dẫn, silicon dioxide phải trong sạch và được hình thành một cách cụ thể. Một trong những cách này là một lò nhiệt. Nó có một số tiến bộ như sau:
- Điều khiển áp suất, nhiệt độ, và hiện tại của oxy hóa.
- Kiểm soát sự phát triển của quá trình oxy hóa trong quá trình khô và ướt