A planar magnetron sputter source w

A planar magnetron sputter source with a new type of magnetic field distribution based on the magnetic multi
zero-crossing points concept is being developed for research aimed at full-target sputtering. Conventional
racetrack-type magnetron sputter has only one zero crossing point of the magnetic field perpendicular to the
cathode surface and the maximum erosion occurs at this point. Making multi zero-crossing points, we obtained
broader plasma distribution than the conventional type device. We confirmed this with the experimental results and
compared with the particle-in-cell (PIC) plasma simulation. The modified magnetic-field distribution results in the
broadened plasma and erosion profiles.

Kết quả (Việt) 1:

Một nguồn sputter phẳng từ trường với một loại mới của từ trường phân phối dựa trên từ tính đaZero-qua điểm khái niệm đang được phát triển cho nghiên cứu nhằm mục tiêu đầy đủ thổi. Thông thườngđường đua-loại từ trường sputter có chỉ một zero xuyên qua điểm của trường vuông góc với cácbề mặt để làm cực âm và xói mòn tối đa xảy ra tại thời điểm này. Làm cho đa số không qua điểm, chúng tôi có đượcphân phối plasma rộng hơn so với thiết bị kiểu thông thường. Chúng tôi xác nhận điều này với các kết quả thử nghiệm vàso sánh với mô phỏng plasma (PIC) hạt trong tế bào. Phân phối từ lĩnh vực sửa đổi kết quả trong cácmở rộng huyết tương và xói mòn Hồ sơ.

Kết quả (Việt) 2:

Một nguồn phún xạ magnetron phẳng với một loại mới của phân bố từ trường dựa trên đa từ
zero-crossing điểm khái niệm đang được phát triển cho các nghiên cứu nhằm mục tiêu toàn phún. Thông thường
đường đua kiểu magnetron phún xạ chỉ có một không qua điểm của từ trường vuông góc với
bề mặt cực âm và sự xói mòn tối đa xảy ra vào thời điểm này. Làm đa điểm zero-crossing, chúng tôi thu được
phân phối plasma rộng hơn so với các loại thiết bị thông thường. Chúng tôi khẳng định điều này với các kết quả thử nghiệm và
so sánh với (PIC) mô phỏng hạt plasma-in-cell. Sự phân bố từ trường biến đổi kết quả trong
huyết tương và xói mòn hồ sơ mở rộng.