2.2 Plasma distributionWe have mode

2.2 Plasma distribution
We have modeled and simulated the plasma
distributions in the sputtering device to confirm the
effects of the modified magnetic field. We used
PIC-MCC method to track the particles of plasma under
given magnetic field distribution [4, 10]. The electron
distribution in our system under the conventional
magnetic field is shown in Fig. 4. The magnetic field
used in the simulation is the same with the data as in
Fig.2. The system size is given in the figure in MKS unit.

Kết quả (Việt) 1:

2.2 plasma phân phốiChúng tôi đã làm người mẫu và mô phỏng plasmabản phân phối trong thiết bị thổi để xác nhận cácảnh hưởng của từ trường lần. Chúng tôi sử dụngPIC-MCC phương pháp để theo dõi các hạt plasma dướiđược đưa ra từ lĩnh vực phân phối [4, 10]. Điện tửphân phối trong hệ thống của chúng tôi theo các quy ướctừ trường được thể hiện trong hình 4. Từ trườngđược sử dụng trong mô phỏng là cùng với các dữ liệu như trongFig.2. kích thước hệ thống được đưa ra trong các con số trong MKS đơn vị.

Kết quả (Việt) 2:

2.2 phân phối Plasma
Chúng tôi đã mô hình hóa và mô phỏng các plasma
phân phối trong các thiết bị phún xạ để xác nhận
tác động của từ trường biến đổi. Chúng tôi sử dụng
phương pháp PIC-MCC để theo dõi các hạt plasma dưới
được phân bố từ trường [4, 10]. Các electron
phân phối trong hệ thống của chúng tôi theo thông thường
từ trường được thể hiện trong hình. 4. Từ trường
được sử dụng trong mô phỏng là cùng với các dữ liệu như trong
Hình 2. Các kích thước hệ thống được đưa ra trong các con số trong MKS đơn vị.