A new MSM-PD structure was obtained by using transparentconducting ZnO dịch - A new MSM-PD structure was obtained by using transparentconducting ZnO Việt làm thế nào để nói

A new MSM-PD structure was obtained

A new MSM-PD structure was obtained by using transparent
conducting ZnO thin layers as interdigitated transparent Schottky
electrodes deposited on silicon wafer. Al and Sn co-doped ZnO
thin layerswere depositedon siliconwafersby the vacuumthermal
evaporation method.
The Al and Sn co-doped ZnO thin layers, have a high
transmittance (TN85%), a smooth nanometer granular structures
and a resistivity of 10
−4
Ωcm being useful for optoelectronic
applications as transparent electrodes. TheZnO/Si Schottkybarrier
was characterized and a barrier height of 0.62 eV was found. The
breakdown voltage exceeds 60 V but it is a soft one and the dark
currents of nanoamperes at 10Vbiasweremeasured. The structure
exhibits an improved responsivity of 0.2A/Wmeasured at 475 nm
0/5000
Từ: -
Sang: -
Kết quả (Việt) 1: [Sao chép]
Sao chép!
Một cấu trúc MSM-PD mới được thu được bằng cách sử dụng trong suốt
tiến hành ZnO mỏng lớp như interdigitated trong suốt Schottky
điện cực lắng đọng trên bánh wafer silicon. Al và Sn đồng doped ZnO
mỏng layerswere depositedon siliconwafersby vacuumthermal
phương pháp bốc hơi.
The Al và Sn đồng sườn ZnO mỏng lớp, có một cao
truyền (TN85%), một cấu trúc dạng hạt mịn nanomet
và một điện trở suất của 10
−4
Ωcm là hữu ích cho quang
các ứng dụng như điện cực trong suốt. TheZnO/Si Schottkybarrier
đặc trưng và chiều cao rào cản 0,62 eV đã được tìm thấy. Các
điện áp sự cố vượt quá 60 V nhưng nó là một trong những mềm và bóng tối
dòng của nanoamperes tại 10Vbiasweremeasured. Cấu trúc
trưng bày một responsivity cải tiến của 0.2A / Wmeasured lúc 475 nm
đang được dịch, vui lòng đợi..
Kết quả (Việt) 2:[Sao chép]
Sao chép!
A new MSM-PD structure was obtained by using transparent
conducting ZnO thin layers as interdigitated transparent Schottky
electrodes deposited on silicon wafer. Al and Sn co-doped ZnO
thin layerswere depositedon siliconwafersby the vacuumthermal
evaporation method.
The Al and Sn co-doped ZnO thin layers, have a high
transmittance (TN85%), a smooth nanometer granular structures
and a resistivity of 10
−4
Ωcm being useful for optoelectronic
applications as transparent electrodes. TheZnO/Si Schottkybarrier
was characterized and a barrier height of 0.62 eV was found. The
breakdown voltage exceeds 60 V but it is a soft one and the dark
currents of nanoamperes at 10Vbiasweremeasured. The structure
exhibits an improved responsivity of 0.2A/Wmeasured at 475 nm
đang được dịch, vui lòng đợi..
 
Các ngôn ngữ khác
Hỗ trợ công cụ dịch thuật: Albania, Amharic, Anh, Armenia, Azerbaijan, Ba Lan, Ba Tư, Bantu, Basque, Belarus, Bengal, Bosnia, Bulgaria, Bồ Đào Nha, Catalan, Cebuano, Chichewa, Corsi, Creole (Haiti), Croatia, Do Thái, Estonia, Filipino, Frisia, Gael Scotland, Galicia, George, Gujarat, Hausa, Hawaii, Hindi, Hmong, Hungary, Hy Lạp, Hà Lan, Hà Lan (Nam Phi), Hàn, Iceland, Igbo, Ireland, Java, Kannada, Kazakh, Khmer, Kinyarwanda, Klingon, Kurd, Kyrgyz, Latinh, Latvia, Litva, Luxembourg, Lào, Macedonia, Malagasy, Malayalam, Malta, Maori, Marathi, Myanmar, Mã Lai, Mông Cổ, Na Uy, Nepal, Nga, Nhật, Odia (Oriya), Pashto, Pháp, Phát hiện ngôn ngữ, Phần Lan, Punjab, Quốc tế ngữ, Rumani, Samoa, Serbia, Sesotho, Shona, Sindhi, Sinhala, Slovak, Slovenia, Somali, Sunda, Swahili, Séc, Tajik, Tamil, Tatar, Telugu, Thái, Thổ Nhĩ Kỳ, Thụy Điển, Tiếng Indonesia, Tiếng Ý, Trung, Trung (Phồn thể), Turkmen, Tây Ban Nha, Ukraina, Urdu, Uyghur, Uzbek, Việt, Xứ Wales, Yiddish, Yoruba, Zulu, Đan Mạch, Đức, Ả Rập, dịch ngôn ngữ.

Copyright ©2025 I Love Translation. All reserved.

E-mail: