The p-type material is formed by do

The p-type material is formed by doping a pure germanium or silicon crystal with impurity atoms having three valence electrons. The elements most frequently used for this purpose are boron, gallium, and indium. The effect of one of these elements, boron, on a base of silicon is indicated in Fig. 1.11.

Kết quả (Việt) 1:

Các vật liệu kiểu p được hình thành bởi doping tinh khiết gecmani hoặc silic tinh thể với nguyên tử tạp chất có ba điện tử hóa trị. Các yếu tố thường xuyên nhất được sử dụng cho mục đích này là Bo, gali và indi. Tác dụng của một trong những yếu tố này, Bo, trên một cơ sở của silic được chỉ định trong hình 1.11.

Kết quả (Việt) 2:

Các nguyên liệu loại p được hình thành bằng cách pha một germanium tinh khiết hoặc tinh thể silicon với các nguyên tử tạp chất có ba electron hóa trị. Các yếu tố thường xuyên nhất được sử dụng cho mục đích này là boron, gali, và indium. Hiệu quả của một trong những yếu tố này, boron, trên cơ sở của silicon được chỉ trong hình. 1.11.