Deposition processing modifies a su

Deposition processing modifies a surface chemically, usually by depositing a chemical vapor or ions onto a surface. It is used in semiconductor processing and for decorative or protective coatings. Vapor source methods require a vacuum to transport the gaseous source of atoms to the surface for deposition. Common vapor sources are thermal evaporation (similar to boiling water to create steam), sputtering (using energetic ions to bombard a source and create the gas state), or laser light (ablates, or removes, atoms from surface to create the gaseous state). Other sources use carrier media such as electrochemical mixtures (ions in a solution transported by an electrical field to the surface for depositions) or spray coating (ions or small particles transported by gases, liquids, and/or electrical field).

Kết quả (Việt) 1:

Lắng đọng chế biến đổi một bề mặt hóa học, thường bằng cách gửi một hơi hóa chất hoặc các ion lên một bề mặt. Nó được sử dụng trong xử lý bán dẫn và lớp phủ trang trí hoặc bảo vệ. Hơi nguồn phương pháp yêu cầu một chân không để vận chuyển các nguồn khí nguyên tử trên bề mặt cho lắng đọng. Nguồn hơi phổ biến là nhiệt bốc hơi (tương tự như nước sôi để tạo ra hơi nước), tạo (sử dụng năng lượng các ion để bắn phá một nguồn và tạo ra khí nhà nước) hoặc ánh sáng laser (ablates hoặc loại bỏ, các nguyên tử từ bề mặt để tạo ra khí nhà nước). Các nguồn khác sử dụng các phương tiện truyền thông tàu sân bay như điện hóa hỗn hợp (các ion trong một giải pháp vận chuyển bởi một trường điện lên bề mặt cho depositions) hoặc phun sơn (ion hoặc hạt nhỏ vận chuyển bằng khí, chất lỏng, và/hoặc điện trường).

Kết quả (Việt) 2:

xử lý lắng đọng sửa đổi một bề mặt hóa học, thường là bằng cách gửi một hơi hóa chất hay ion lên một bề mặt. Nó được sử dụng trong chế biến bán dẫn và cho sơn trang trí hoặc bảo vệ. phương pháp nguồn hơi đòi hỏi một chân không để vận chuyển các nguồn khí nguyên tử lên bề mặt để lắng đọng. nguồn hơi thường gặp là bốc hơi nhiệt (tương tự như nước sôi để tạo ra hơi nước), phương pháp phún xạ (sử dụng ion mạnh để bắn phá một nguồn và tạo ra trạng thái khí), hoặc ánh sáng laser (ablates, hoặc loại bỏ việc, các nguyên tử từ bề mặt để tạo ra trạng thái khí) . Các nguồn khác sử dụng phương tiện truyền thông hãng như hỗn hợp điện hóa (các ion trong dung dịch được vận chuyển bằng một điện trường để bề mặt cho depositions) hoặc phun sơn (ion hay các hạt nhỏ được vận chuyển bằng khí, chất lỏng, và / hoặc điện trường).