ing the effect of Hg(II) concentrat

ing the effect of Hg(II) concentration on the ASV peaks in
highly saline samples, we found that an increase in the
Hg(II) concentration in the range from 20 to 50 mg L

1
caused a decrease in the ASV peaks of Cd(II) and Tl(I).
However, the height and shape of the ASV peaks of Pb(II)
and Cu(II) were not affected by the increase of Hg(II)
concentration. The increase on Hg(II) concentration prob-ably affects the homogeneity of thinmercury filmdeposited
on the GC electrode, since it is based on the formation of
closely packed Hg microdroplets at electrode surface [1].
From this observation, a concentration of 25 mg L

1
Hg(II)
was selected for the optimal MFE deposition and the
subsequent ASV determinations in all the studied saline
samples. It is also important to highlight that the use of a
cleaning step atMFEby using potentialsmore positive than
0 V lead to poor reproducibility of stripping voltammo-grams of the metals, which may be related to the formation
of calomel on the electrode surface at high chloride
concentration. From these results, we decided to use the
MFE without any electrochemical cleaning steps (only a
daily mechanical cleaning), since the ASV determinations
at theMFE inall the sampleswithout this cleaning stepwere
shown to be well reproducible during a work day

Kết quả (Việt) 1:

ing có hiệu lực của cách tập trung vào ASV đỉnh trongmẫu cao mặn, chúng tôi thấy rằng sự gia tăng trong cácCách tập trung trong khoảng từ 20 đến 50 mg L1gây ra một sự giảm xuống trong các đỉnh núi ASV Cd(II) và Tl(I).Tuy nhiên, chiều cao và hình dạng của ASV đỉnh núi của Pb(II)và Cu(II) đã không bị ảnh hưởng bởi sự gia tăng của cáchtập trung. Sự gia tăng về cách tập trung prob ably ảnh hưởng đến tính đồng nhất của thinmercury filmdepositedtrên các điện cực GC, kể từ khi nó được dựa trên sự hình thành củađóng gói chặt chẽ Hg microdroplets điện cực bề mặt [1].Từ các quan sát này, nồng độ của 25 mg L1Cáchđược lựa chọn cho sự lắng đọng MFE tối ưu và cácsau đó ASV quyết định trong tất cả dung dịch muối nghiên cứumẫu. Nó cũng là quan trọng để làm nổi bật mà sử dụng mộtatMFEby bước làm sạch bằng cách sử dụng potentialsmore tích cực hơn0 V dẫn đến nghèo reproducibility của tước voltammo-gam kim loại có thể được liên quan đến sự hình thànhcủa calomel trên bề mặt điện cực lúc cao cloruatập trung. Từ những kết quả này, chúng tôi quyết định sử dụng cácMFE mà không làm sạch điện hóa bất kỳ bước (chỉ mộtcơ khí dọn dẹp hàng ngày), từ quyết định ASVtại theMFE inall sampleswithout này stepwere làm sạchchứng minh là tốt thể sanh sản nhiều trong một ngày làm việc