a mesa etch step is performed for i

a mesa etch step is performed for isolation. and a metal layer is evaparated for the source and drain ohmic contacts. channel recess etch is follewed by a gate recess etch and gate evaporation

Kết quả (Việt) 1:

mesa một etch bước được thực hiện cho sự cô lập. và một lớp kim loại là evaparated cho các số liên lạc trong ohmic nguồn và cống. Kênh ngưng etch là follewed bởi một gate hốc etch và cổng bốc hơi

Kết quả (Việt) 2:

một bước etch mesa được thực hiện để phân lập. và một lớp kim loại được evaparated cho nguồn và cống địa chỉ liên lạc ohmic. kênh nghỉ etch được follewed bởi một etch cửa nghỉ và cổng bốc hơi