The most commonly used resist consist of Diazonaphtoquinone(DQ), which is the photoactive compound(PAC), and novolac(N), a matrix material called resin.
Thường được sử dụng chống lại bao gồm Diazonaphtoquinone (DQ), đó là các hợp chất quang hoạt (PAC), và novolac (N), một vật liệu ma trận được gọi là nhựa.