IC masks are high-contrast (black o

IC masks are high-contrast (black on clear) photographic positives or negatives. They are used to selectively prevent light from striking a photosensi-tized wafer during the photolithographic process.

Kết quả (Việt) 1:

IC mặt nạ là độ tương phản cao (màu đen trên rõ ràng) hình ảnh tích cực hay tiêu cực. Chúng được sử dụng để chọn lọc ngăn chặn ánh sáng từ tấn công một wafer photosensi-tized trong quá trình photolithographic.

Kết quả (Việt) 2:

IC mặt nạ độ tương phản cao (đen rõ ràng) tích cực chụp ảnh hoặc âm. Chúng được sử dụng để chọn lọc ngăn chặn ánh sáng từ nổi bật một wafer photosensi-tized trong quá trình quang khắc.