4.3.3 Etching in Developer Solution

4.3.3 Etching in Developer Solution


To ensure the pattern will be fully developed, during the developing
process, the photo resist developer solution was used to wash away the exposed
resist. Then the solution was removed by spray wash. In this process, water was
added with Sodium Hydroxide (NaOH).

Kết quả (Việt) 1:

4.3.3 khắc trong phát triển giải pháp


để đảm bảo các mô hình sẽ được phát triển đầy đủ, trong thời gian phát triển
quá trình, giải pháp phát triển chống lại ảnh được sử dụng để rửa sạch các tiếp xúc
chống lại. Sau đó các giải pháp đã được gỡ bỏ bởi phun rửa. Trong quá trình này, nước
được bổ sung với hiđrôxít natri (NaOH).

Kết quả (Việt) 2:

4.3.3 Etching trong Giải pháp phát triển để đảm bảo mô hình sẽ được phát triển đầy đủ, trong thời gian phát triển quá trình, hình ảnh chống lại giải pháp phát triển được sử dụng để rửa sạch các tiếp xúc chống lại. Sau đó, các giải pháp đã được gỡ bỏ bằng cách rửa phun. Trong quá trình này, nước được bổ sung Sodium Hydroxide (NaOH).