Physical vapor deposition (PVD). Material, evaporated by heating, by ion bombardment, or by laser ablation, is deposited on a substrate target. The deposited layer can be of nano thickness.
Bay hơi vật lý các lắng đọng (PVD). Vật liệu,bốc hơi nung, bởi ion bắn phá, hoặc bằnglaser cắt bỏ, được gửi vào một mục tiêu chất nền.Gửi lớp có thể của nano dày.
Lắng đọng hơi vật lý (PVD). Vật liệu, bốc hơi do nhiệt, do bắn phá ion, hoặc bằng cách cắt đốt bằng laser, được lắng đọng trên bề mặt một mục tiêu. Các lớp lắng đọng có thể được các độ dày nano.